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簡(jiǎn)介：THEIA是一款高性能，穩(wěn)定，靈活，可靠且安全的研發(fā)型原子層沉積系統(tǒng)，兼具工業(yè)生產(chǎn)解決方案的優(yōu)勢(shì)。THEIA超快平面原子層沉積系統(tǒng)可進(jìn)行升級(jí)改造，從而滿足科學(xué)研究的各種需求，并實(shí)現(xiàn)從“研發(fā)”到“生...

簡(jiǎn)介：PANDORA是高度集成的臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)，可擺放在實(shí)驗(yàn)室的任意角落，采用旋轉(zhuǎn)式反應(yīng)腔實(shí)現(xiàn)對(duì)粉末材料的分散，有更高的兼容性。對(duì)于平面樣品，則可快速插入平面反應(yīng)臺(tái)，實(shí)現(xiàn)樣品的切換。PANDORA多...

簡(jiǎn)介：P系列粉末原子層沉積系統(tǒng)是ForgeNano針對(duì)工業(yè)包覆研發(fā)的粉末ALD負(fù)載系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)kg級(jí)粉末批量包覆，是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具。

簡(jiǎn)介：芬蘭PICOSUN公司是ALD技術(shù)發(fā)明人TuomoSuntola創(chuàng)立的，與Picosun專家隊(duì)伍被稱為ALD的

簡(jiǎn)介：粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD美國(guó)ALDNANOSOLUTIONS公司技術(shù)，專注于粉末顆粒表面鍍膜

簡(jiǎn)介：SAL3000原子層沉積系統(tǒng)是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設(shè)備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外，還可進(jìn)一步通過改變鍍...

簡(jiǎn)介：SAL-3000PlusALD原子層沉積系統(tǒng)是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統(tǒng)，可通過連接STR2000轉(zhuǎn)移單元，與退火設(shè)備SAN2000Plus，鍍膜設(shè)備，SVE2000Plus蒸鍍?cè)O(shè)備SSP...

簡(jiǎn)介：SAL1000系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備，可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸（φ100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

簡(jiǎn)介：臺(tái)式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替的通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式逐層的鍍?cè)谝r底表面的方法。因此，它是一種真正的“...

簡(jiǎn)介：該P(yáng)ECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備系統(tǒng)可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等?？蛇x用射頻（RF）、空陰*密度等離子體（HCD）源、感應(yīng)耦合等離子體（I...