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SAL3000 原子層沉積系統(tǒng)

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SAL3000 原子層沉積系統(tǒng)是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設(shè)備,該設(shè)備多可搭載6路前驅(qū)體,適用于4英寸(φ100mm)以下基底材料的鍍膜。該設(shè)備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外,還可進(jìn)一步通過改變鍍膜方向,來進(jìn)一步提高鍍膜的質(zhì)量。

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SAL3000 原子層沉積系統(tǒng)

SAL3000 原子層沉積系統(tǒng)是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設(shè)備,該設(shè)備多可搭載6路前驅(qū)體,適用于4英寸(φ100mm)以下基底材料的鍍膜。該設(shè)備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外,還可進(jìn)一步通過改變鍍膜方向,來進(jìn)一步提高鍍膜的質(zhì)量。并且該設(shè)備還可搭載互鎖腔體(Load lock Chamber)和手套箱來沉積需要?dú)夥毡Wo(hù)的樣品。

                 

性能及特點(diǎn):

1.鍍膜質(zhì)量高

·膜厚均勻性≤3% @ 100mm

·對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性;

·膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個(gè)原子層;

·大面積制程可達(dá)到無孔洞薄膜(Pin Hole free)

·*的重復(fù)性及穩(wěn)定性

·材料缺陷密度低

·可成長非晶型或結(jié)晶薄膜(選擇溫度)

2.兩種成膜方向可選

·可選擇將薄膜沉積在基底上表面(SAL-3000D)和基底下表面(SAL-3000U),薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風(fēng)險(xiǎn)。

3. 可搭載互鎖腔體(Load lock chamber)和手套箱

4.圖形用戶界面,觸控操作,簡單易用,可存儲(chǔ)30多種鍍膜方案;

5.主機(jī)與控制機(jī)箱一體化設(shè)計(jì);

6. 可搭配多種配件:

干式真空泵,臭氧發(fā)生器,尾氣處理裝置,800℃基底加熱器,200℃前驅(qū)體加熱器等,退火設(shè)備等;

 


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