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SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)

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SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備,可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸(φ 100mm)基片的沉積,并可搭載粉末樣品架和手套箱。

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SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)

SAL-1000Series是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備,可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸(φ 100mm)基片的沉積,并可搭載粉末樣品架和手套箱。

SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)具備如下特點:

1.良好的成膜性能,膜厚均勻性高,≤3%

· 對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性;

· 膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個原子層;

· 大面積制程可達(dá)到無孔洞薄膜(Pin Hole free)

· *的重復(fù)性及穩(wěn)定性

· 材料缺陷密度低

· 可成長非晶型或結(jié)晶薄膜(選擇溫度)

2.優(yōu)異的真空性能,真空度≤5Pa

3.觸控操作,簡單易用;

·觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過程,并檢查每個驅(qū)動系統(tǒng)的運動。

·可進(jìn)行自動沉積,并在沉積完成后自動完成N2排放。

·手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。

4.配件豐富,可滿足多種試驗需求:

基底旋轉(zhuǎn)架、粉末樣品配件、手套箱、臭氧發(fā)生器、尾氣處理設(shè)備、200℃前驅(qū)體的加熱器,干式真空泵等;

粉末沉積配件:傾斜框架可調(diào)整的角度為0 ~ 45°,更便于粉末成膜。單次可對5cm3的粉體進(jìn)行表面沉積;                                                                                                                   


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