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日立磁控濺射器MC1000

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日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm特點：采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件可處理較厚或較大的樣品...

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概述
產品參數(shù)

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

  • 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm

  • 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm

特點：

  • 采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件

  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

  • 記憶功能可存儲常用加工條件


產品參數(shù)


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