用你常用的儀器進行AFM測量

在越來越多的情境下，研究人員希望結合光學和原子力顯微鏡技術。光學顯微鏡的易用性，篩選能力和（無）樣品制備要求幾乎是的。然而，有時目標放大100倍的是不夠的，您想更仔細地觀察一些超出儀器分辨率的微小特征。在常規(guī)實驗室環(huán)境中，您需要兩個專用儀器，并且有必要將樣品從一個設備轉(zhuǎn)移到另一個設備。 使用LensAFM則不必如此。憑借其極小的設計和巧妙的安裝機制，您需要做的就是旋轉(zhuǎn)光學顯微鏡或輪廓儀上的轉(zhuǎn)盤并運行掃描。

LensAFM將地集成到您的工作流程中：將其安裝在光學顯微鏡的轉(zhuǎn)盤上 - 就像常規(guī)物鏡一樣 - 您可以使用正常物鏡選樣品以找到感興趣的區(qū)域。隨后，使用集成的8倍光學鏡頭可以再次定位該區(qū)域，然后您可以執(zhí)行AFM測量以獲得更高分辨率的3D信息：以您慣有的方式工作，分辨率和功能卻得到極大提升。

LensAFM具有快速卸載機制，可輕松地將LensAFM安裝到轉(zhuǎn)臺和從轉(zhuǎn)臺卸下。可調(diào)安裝保證您可以以高于10μm的精度更換它。芯片安裝座上的對準凹槽還可確保下一個微懸臂的位于相同位置的4μm范圍內(nèi)，即使在微懸臂更換后也能再次回到相同的特征值。由于這些對準凹槽，您甚至不需要在微懸臂上執(zhí)行激光對準，從而節(jié)省了額外的時間。

LensAFM 為您的光學顯微鏡帶來了所有這些測量功能，無需重新思考一整個新的工作流程。觀看視頻，了解提升您的顯微能力是多么容易。

提升光學顯微鏡的能力

由于光學顯微鏡的分辨率受光的波長限制，因此光學系統(tǒng)在可實現(xiàn)的分辨率上有一個極限。在越來越多的應用中，就需要光學和原子力顯微鏡的組合。此外，AFM可以無障礙表征透明樣品或其他難以光學評估的樣品。且不僅僅是樣品的形貌：AFM還允許獲得其他材料特性的知識，例如，表面粗糙度，硬度變化，磁性或電導/電阻。

LensAFM 成像模式

以下描述為儀器所具備的模式。某些模式可能需要其他組件或軟件選項。詳情請瀏覽產(chǎn)品手冊或直接聯(lián)系我們

標準成像模式

靜態(tài)力模式

動態(tài)力模式(輕敲模式)

相位成像模式

電性能

導電探針 AFM (C-AFM)

壓電力顯微 (PFM)

靜電力顯微 (EFM)

開爾文探針力顯微(KPFM)

掃描擴散電阻顯微 (SSRM)

磁性能

磁力顯微

機械性能

力調(diào)制

力譜

力映射

其他測量模式

刻蝕和納米操縱

LensAFM 應用示例

LensAFM /光學平臺組合提供了一個互補的成像系統(tǒng)，極大地擴展了這些儀器單獨的分辨率和測量能力，如下面的三張圖所示

相同區(qū)域由LensAFM的內(nèi)置8倍物鏡觀察到的光學視圖。 AFM微懸臂在光學圖像中可見，允許在測量之前容易地定位樣品。

由LensAFM記錄的同樣缺陷的AFM形貌。該區(qū)域的三維數(shù)據(jù)清楚地識別出該缺陷為涂層上的一個洞，部分被碎屑填充。