瑞士CSM納米劃痕儀(10uN - 1N)
可以測試薄膜和基底的臨界附著力，劃痕深度、劃痕寬度、凸起高度以及材料的粘彈性恢復(fù)等力學(xué)性能?？梢赃M行微拉伸實驗?？蓪崟r記錄摩擦力及摩擦系數(shù)的變化，以及用于納米磨損測試。
瑞士CSM的納米劃痕儀主要用于界定膜基結(jié)合強度與薄膜抗劃痕強度，適用的薄膜厚度一般低于800納米。納米劃痕儀可以用于多種薄膜材料的檢測分析，例如單層或多層PVD、CVD、PECVD薄膜，感光薄膜，彩繪釉漆，光學(xué)薄膜，微電子鍍膜，保護性薄膜，裝飾性涂層等等。基體可以為軟質(zhì)或硬質(zhì)材料，包括金屬、合金、半導(dǎo)體、玻璃、礦物、以及有機材料等。
瑞士CSM納米劃痕儀技術(shù)參數(shù)：
劃痕測試單元：
劃痕正向力載荷 10uN-1N
摩擦力可大至 1N(或200mN)
摩擦力分辨率 6uN(或300nN)
劃痕深度 200 um
劃痕長度 120mm
劃痕速度 0.4-600mm/min，連續(xù)可調(diào)
高質(zhì)量金相顯微鏡系統(tǒng) ：
配有高分辨率的彩色CCD和與之匹配的圖形采集系統(tǒng)
配有5X，20X、和100倍的物鏡鏡頭，屏幕上放大倍率4000倍
在不拆卸、更換鏡頭的情況下，通過轉(zhuǎn)塔可以在不同倍率鏡頭間切換使用
采用LED光源系統(tǒng)
軟件控制光源系統(tǒng)的亮度和聚焦
點擊鼠標即可實時存取試樣表面的光學(xué)圖像
全自動連續(xù)景深成像(Multifocus)
全景成像模式(Panorama模式，對劃痕)
雙顯示器，一個用于測試模塊的軟件控制，一個用于光學(xué)圖像采集、觀察
配有成像分析軟件：具有長度標尺，可以測試或顯示光學(xué)圖像中任意兩點坐標，水平距離、垂直距離、直線距離
XYZ三方向全自動試樣臺(以CPX納米力學(xué)平臺為例)：
X方向移動范圍： 120mm
Y方向移動范圍： 70mm
有效工作面積： 70mmX20mm
定位分辨率： 0.1um
定位精度： 1um
Z方向自動移動范圍： 30mm
分辨率：10nm
XYZ三方向移動控制：鼠標控制、鍵盤控制及操縱桿控制
