高精度光譜橢偏儀 ELLIP-SR-Ⅰ型主要適用于科研院所的信息光電子功能薄膜、體材料的光學(xué)性質(zhì)和結(jié)構(gòu)特性研究，可被研究材料種類包括：金屬和合金、元素和化合物半導(dǎo)體、絕緣體、超導(dǎo)體、磁性和磁光材料、有機(jī)材料、太陽能薄膜、多層薄膜材料、液體材料等。在測量中，可按研究條件同時(shí)對入射角和波長進(jìn)行自動精細(xì)掃描，從而增加研究的靈活性，便于用戶獲得更多的光譜信息進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，提高研究的質(zhì)量和可靠性，并實(shí)現(xiàn)無接觸無損傷測量。該系列光譜儀的性能指標(biāo)達(dá)均已達(dá)到同類技術(shù)的*水平，產(chǎn)品國內(nèi)及海外市場。
高精度光譜橢偏儀 ELLIP-SR-Ⅰ型技術(shù)參數(shù)：
波長范圍：250-830nm， 250-1100nm， 250-1700nm ， 250-2100nm 。
光源：氙燈
波長分辨率：1.0nm
入射角范圍： 20-90度（每5度間隔）
樣品臺：Ø110 mm （可配三維樣品臺）
入射角精度：0.001度
測量模式：反射式光譜值
測量方式：自動完成AC信號測量
實(shí)測光學(xué)常數(shù)種類：復(fù)折射率（ n, k ）；
反射率R
膜厚精度：±0.1nm
光學(xué)常數(shù)精度優(yōu)于0.5％
橢偏參數(shù)精度：D±0.02度；Y±0.01度
選配：*微光斑技術(shù)（國內(nèi)*），高精度XY平臺，特制CCD成像系統(tǒng)。
主要特點(diǎn)
WINXP友好操作界面
實(shí)測光學(xué)常數(shù)種類：復(fù)折射率、復(fù)介電函數(shù)、吸收系數(shù)、反射率。
主要用途
1.各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測量和光譜學(xué)特性分析；
2.測量薄膜材料的折射率和厚度； 測量對象包括：金屬、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、
絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、光電材料、非線性材料；測量光學(xué)常數(shù)：復(fù)折射率的實(shí)虛部、復(fù)介電常數(shù)的實(shí)虛部、吸收系數(shù)a、反射率R。
本信息來自鄭州沃邦儀器，如需幫助請致電*
