求
二氧化硅濺射系統(tǒng)
2022-10-22物理實驗室DE350 Sputter 二氧化硅濺射系統(tǒng)
其他信息
- 有 效 期：
- 已過期
- 采購數(shù)量：
- 1
- 所 在 地：
- 暫無
- 瀏覽次數(shù)：
- 268次
免責(zé)聲明：以上所展示的信息由企業(yè)自行提供，內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布企業(yè)負(fù)責(zé)，儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
同類求購信息
-
自動真空磁控離子濺射鍍膜儀
COWAQS150RTL-1自動真空磁控離
-
薄膜沉積-磁控濺射
DesktopPro薄膜沉積-磁控濺射
-
高分辨率鍍膜儀（離子濺射儀）
208HR高分辨率鍍膜儀（離子濺
-
二氧化硅濺射系統(tǒng)
物理實驗室DE350Sputter二氧化
-
小型磁控濺射儀
KT-Z1650PVD小型磁控濺射儀
-
觸摸屏高真空一體化濺射鍍膜儀
英國QUORUMQ150T新型觸摸屏高
-
離子濺射鍍膜儀
英國Emitech離子濺射鍍膜儀，
-
金離子濺射儀
金離子濺射儀
-
vtc-2rf濺射儀
vtc-2rf濺射儀
