K975X/K975S高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀

K975X渦輪泵高真空蒸鍍儀是一個多用途鍍膜系統(tǒng)，它具有靈活性和模塊化擴展功能，以適應(yīng)不同的樣品制備。K975X可實現(xiàn)一系列制樣技術(shù)，包括TEM的碳支持膜及覆形膜，碳/金屬蒸鍍、低角度投影(可選)和通過使用雙源蒸發(fā)(可選)進行順序鍍層，濺射鍍膜附件(可選)能適用于多種靶材。*的抽屜式樣品裝載系統(tǒng)使得用戶可方便地放入各種樣品，鉸鏈式頂蓋結(jié)構(gòu)也很容易到達工作腔室內(nèi)的各個區(qū)域。

K975S基于K975X，但它具有特殊的和更大的樣品裝載門，可允許放入8英寸（200mm）晶圓或類似大樣品鍍碳。碳棒蒸發(fā)源直接安裝在真空腔室頂蓋板上，便于碳槍操作，并為大直徑樣品提供所需的蒸發(fā)源至樣品的距離。與K975X不同，K975S沒有安裝金屬蒸發(fā)源以及相應(yīng)的底板安裝立柱。

儀器特點：

•   全自動抽真空系統(tǒng)

•   樣品尺寸可達140毫米見方或200毫米直徑

•   *設(shè)計的“anti-stick”碳棒蒸發(fā)槍

•   抽屜式樣品裝載系統(tǒng)

•   可選的蒸鍍類型，具有四種蒸發(fā)設(shè)置

•   有節(jié)制的破真空排氣控制

•   可選濺射附件

•   可選膜厚監(jiān)測附件（FTM）

*應(yīng)用：

•   碳棒/碳繩蒸發(fā)

•   金屬蒸發(fā)

•   掃描電鏡光闌清潔（鉬舟）

•   TEM用碳支撐膜和覆形膜

•   低角度陰影

•   采用雙源蒸發(fā)的連續(xù)鍍層

•   EDX、WDS、EBSD分析

•   可選的磁控濺射應(yīng)用

對于SEM應(yīng)用的機械泵抽真空的噴金噴碳儀，請參見SC7620和Q150R Plus。對于FE-SEM應(yīng)用所需的超細顆粒鍍膜，建議采用高真空鍍膜儀，請參見Q150T Plus、Q150V Plus或Q150GB；如需大腔室版本的鍍膜系統(tǒng)，請參見：Q300T T Plus、Q300T D Plus、Q300T ES Plus和K975X/K975S。這些產(chǎn)品科研用途。